韩国研究基金会（KoreaResearchFoundation，全称KFRI）宣告，国立韩巴大学的YunHongseok教授团队研发出有一种高速蚀刻技术，可以通过高压气体喷气将多层OLED薄膜高效的蚀刻到所须要衬底。用于机械物理方法展开多层薄膜蚀刻时，需先将薄膜重复使用与原衬底分离出来，再行与其他衬底融合制作出有器件。但分离出来薄膜和原衬底时，薄膜不会被拿走或起皱，或是角被扯开而无法用于，这也是目前OLED蚀刻技术无法量产的原因。
回应，YunHongseok教授的团队研发出有一种新的技术，用于基于气体喷气的高速剥离技术，有效地掌控OLED薄膜与衬底之间的结合能。研究找到，在衬底和OLED薄膜之间流经相似音速的气体，可以有效地增加薄膜与衬底间的结合力，使薄膜和衬底间的附着力减少，在薄膜不不受受损的情况下精彩从衬底挤压。利用气体喷气蚀刻OLED多层膜时的能量传递过程Source:KoreaResearchFoundation右图为利用气体喷气技术蚀刻OLED多层膜时能量传递过程的示意图。
下方的的玻璃为原衬底，上方的PET塑料为蚀刻后的衬底，OTS分子因应成像喷气技术，可以减少薄膜与玻璃衬底的结合能，使薄膜与玻璃的结合能大于薄膜与PET的结合能（Ea1Ea2），在气体喷气能量Ejet的起到下，所附在PET衬底上的OLED薄膜精彩与玻璃挤压，超过蚀刻的目的。YunHongseok教授说明说道，“这项研究可以构建OLED器件的较慢制作，因为气体喷气技术可以在不受损OLED薄膜的同时高效的蚀刻。
如果用于溶液法制取OLED薄膜，其单位生产成本可大大降低。这项技术目前可以被普遍的应用于OLED灯光和表明领域，甚至在未来应用于电子器件的制作，如太阳能电池和半导体。”这项研究是在韩国研究基金会的“基础研究反对项目”资助下展开的，并公开发表在纳米材料应用于涉及的期刊《Nanoscale》。
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